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家登、帆宣、公準 接單旺到明年

  • 工商時報 涂志豪
英特爾、台積電、三星、SK海力士等半導體四巨頭已將ASML今、明兩年EUV曝光機產能預訂一空。圖/美聯社
英特爾、台積電、三星、SK海力士等半導體四巨頭已將ASML今、明兩年EUV曝光機產能預訂一空。圖/美聯社

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包括英特爾、台積電、三星、SK海力士等半導體四巨頭今年擴大極紫外光(EUV)產能建置及量產規模,包括向艾司摩爾(ASML)採購最新0.33數值孔徑EUV曝光機,每小時曝光產量(throughput)可提升至160片,並與ASML合作開發0.55高數值孔徑(High-NA)次世代EUV技術,預計2025年進入量產,以維持摩爾定律有效性。

隨著7奈米及5奈米等先進邏輯製程、1a奈米DRAM製程今年導入EUV微影技術並擴大量產投片規模,四大半導體廠已將ASML今、明兩年EUV曝光機產能預訂一空。法人看好EUV設備及材料供應鏈強勁需求,包括家登(3680)、帆宣(6196)、公準(3178)等EUV概念股接單旺到明年。

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台積電及三星在2019年推出採用EUV技術7奈米製程,2020年採用更多EUV光罩層的5奈米亦進入量產階段,加上三星領先同業率先以EUV量產1a奈米DRAM,推升EUV生態系統進入成長爆發階段。根據ASML統計,2019年初採用EUV曝光晶圓累計達400萬片,但去年底晶圓累計已達2,600萬片規模,2021年將維持高速成長。

市調機構IC Knowledge LLC指出,ASML自2019年第四季開始出貨的NXE:3400C曝光機,在每平方公分30毫焦耳(30mj/cm2)功率下,每小時曝光產量約135~145片,在邏輯製程上可支援5奈米量產及3奈米初期生產。隨著台積電及三星明年開始量產3奈米,ASML今年下半年推出升級版NXE: 3600D曝光機,每小時曝光產量提升至160片,可符合3奈米製程量產需求。

ASML將於2022~2023年推出妥善率達95%的新一代0.33 NA的EUV曝光機,屆時每小時曝光產量可再提升至220片以上。同時,ASML將於2022年下半年推出次世代支援0.55 High-NA的EUV曝光機EXE:5000,每小時曝光產量達150片,預計2025年推出首款High-NA量產型曝光機EXE:5200,每小時曝光產量將超過220片。

ASML今年產能可支援45~50台EUV曝光機出貨,其中八成已被台積電及三星包下。隨著半導體四巨頭擴大EUV產能建置並提高量產規模,EUV設備及材料供應商直接受惠,家登已拿下全球九成EUV光罩盒(EUV Pod)訂單並逐季放量出貨,帆宣及公準取得更多EUV設備模組及精密零組件代工訂單,訂單能見度已看到明年。

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