鼎佳能源為了能符合半導體廠對於設備之嚴格要求，將此HPR系統委託財團法人精密機械研究發展中心(PMC)，嚴格依據SEMI S2標準進行認證。於2021年5月通過審查驗證，並獲頒證書，預計協助台灣晶圓製造產業降低成本，並符合綠色循環經濟之要求。
PMC總經理賴永祥表示，半導體製程在7奈米以下，進入了極紫外光(EUV)微影製程的時代。台積電也成為全球第一家引進EUV製程之晶圓製造廠。EUV製程其中一項特色就是耗用大量氫氣。依據新聞報導台積電每天需要氫氣槽車幾十輛，每天需耗用氫氣約十萬立方米。然而目前EUV製程使用之氫氣九成以上並未消耗，直接自EUV設備排出。台灣氫氣原料主要為天然氣，同時也是台灣未來發電的主力燃料。如何將半導體製程氫氣進行安全有效的回收，避免氫氣不足影響晶圓廠產能，將會是重要課題。
鼎佳能源公司董事長閻明宇表示，針對晶圓廠氫氣回收需求，開發出以常壓電化學法為原理的氫氣純化回收系統(HPR, Hydrogen Purify and Recovery System) 。這項產品相較傳統氫氣純化技術有兩項重大優勢:常壓操作，傳統氣體純化都需要先將易燃易爆的氫氣壓縮成為高壓氣體。屬於危險製程。一般晶圓廠無法接受。鼎佳產品可於安全常壓條件下進行純化。高效分離含有氮氣之氫氣，半導體製程中常含有30-50%氮氣，傳統製程分離效率不佳，鼎佳能源產品可將EUV排放之廢氫回收80%，同時將氫氣純化至99.999%與氫氣業者供應之氫氣純度相同。
以常壓電化學法為原理的氫氣純化回收系統，獲得國內半導體廠之採用，將可為國內省下大量氫氣，減少氫氣製造產生之碳排放。同時也可降低晶圓製程之成本，更加鞏固台灣半導產業競爭優勢。鼎佳能源產品資訊：網址: https://toplus-e.com.tw/list/36。