荷蘭曝光機巨頭艾司摩爾(ASML)日前指出,中國企業東方晶源可能侵權。對此,東方晶源微電子科技(北京)有限公司11日晚間回應,近期網路相關報導與事實不符,並指公司尊重、保護智慧財產權,並形成獨立、完備的智慧財產權體系。
路透報導,東方晶源在官網發聲明指出,公司已成功自主研發出運算曝光軟體(OPC)、奈米級電子束檢測設備(EBI)及關鍵尺寸量測設備(CD-SEM)三款核心產品。
東方晶源表示,公司自成立以來一直遵守中國法律法規、合法合規經營,又指未來將繼續與產業鏈上下游夥伴合作,專注中國半導體核心技術的研發與突破。
ASML日前在年報中指出,東方晶源在中國積極銷售可能侵犯其智慧財產權的產品,並指已經向中國當局表達關切,正密切關注事態發展,並準備好在合適時機採取法律行動。