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美日荷聯手管制晶片 中國可彎道超車嗎?

示意圖。圖/本報資料照片
示意圖。圖/本報資料照片

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美日荷終於在日前達成對中國限售半導體設備協議,雖然沒有公布協議細節,但外界都猜測限售的項目應該比先前管制的範圍更大,不少大陸半導體界對此感到憂心忡忡。一些分析人士估計,除了原有的半導體先進製程設備之外,連成熟製程的設備與材料零組件都可能會列入管制。如果真如業界所做最壞的估計,別說相當長時間內無法實現彎道超車,可能連現有較高階的半導體生產線都會難以為繼。

根據荷蘭光刻機巨頭艾斯摩(ASML)日前對媒體發出的聲明中表示,這項由幾個國家達成的先進製程晶片技術與設備的最新協議,其涵蓋的內容包括但不限於先進製程的光刻機。這意味著除了先前已經列入管制的EUV極紫外光刻機之外,連已部份出售到中國的DUV深紫外光刻機都會列入禁售管制。如果實際情況有如業界所擔憂,不只先進製程設備取得無望,未來就連已在中國生產多年的成熟製程(28nm以上)設備,其維修零件與相關材料(如光刻膠)亦可能遭到攔截。

從日本產業相西村康稔日前對媒體的說法可以約略獲得印證。日媒指出,出口管制需修改法令,限制措施可能要數個月才會實施,亦即這段時間以來仍對中銷售的設備與材料將透過修法進行限制,其中除了東京威力科創的光刻機,以及用於晶圓的光刻膠等材料。

如果限售的範圍擴到大包括28nm在內的成熟製程,有業界人士說,那就不只是「卡脖子」,而是「割腰子」了。除了無法升級至先進製程,連成熟製程都可能因難以維護或材料短缺而無法生產。有分析人士以華為智慧手機比喻道,華為被抵制後無法獲得5G的高端晶片,往後恐怕連4G晶片製造都受到影響。

目前大陸半導體業者擁有的DUV光刻機設備數量為全球最多,它們的正常運作與維護離不開美國、荷蘭和日本的技術與零組件、材料支持,如果把連這些都限制,大陸的DUV光刻機用不了多久就會無法正常生產。即便有部份材料或零件可以使用國產替代,但這種精密機器必須樣樣合規才行,即便迫不得已走上國產替代,到每一樣都開發出來,也得花掉相當長的時間。如此一來,缺乏先進晶片支持,從國外又無法進口,各種高科技的研發都會受阻。

一旦荷蘭和日本的限制也正式生效,中芯國際(SMIC)、長江存儲(YMTC)、長鑫存儲(CXMT)等大陸最頂尖半導體企業,目前已擁有的DUV光刻機等設備的維護就成了大問題,維護所需的圖紙、配件、工程師,缺一不可。如果美日荷的晶片協議的限制擴展到維護技術與材料,現有的高階半導體設備可能幾個月後就會停擺。中國做為全球最大的晶片進口國,在國產晶片生產線受阻時必須擴大對外採購,也會更加依賴外國晶片產業,外國的晶片製造商、半導體設備與材料業者也能因此獲益,日本、荷蘭不見得會因這項協議吃多少虧。

有些媒體的評論指出,沒有DUV/EUV光刻機,還能發展NIL光刻機,但這些媒體從來不提這款光刻機使用的NIL技術是由普林斯頓大學周郁教授研究出來的,它使用的美國技術與專利一點都不比DUV/EUV光刻機少,美國照樣可以依現有的技術管制路徑限制美國技術對中國出口。

此外,最近為規避昂貴的EUV光刻機而快速發展的小晶片(晶粒)技術,大部份也都掌握在美國企業手上。唯一的差別是小晶片技術發展時間尚短,所需的配套設備與材料沒有光刻機那麼複雜,要在短時間內趕上美國的技術進展比走DUV/EUV光刻機路徑要容易,研發經費也少得多。如果從成功機率與成本效益衡量,採用其他的半導體技術或許是彎道超車最有希望的路徑。

文章來源:頭條揭密臉書

(中時新聞網 盧伯華)

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