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台積電1舉動外媒示警 恐淪死敵悲劇下場

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台積電並未採用ASML最新機台引發市場高度關注。圖/美聯社
台積電並未採用ASML最新機台引發市場高度關注。圖/美聯社

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【中時新聞網 郭宜欣】半導體大廠艾司摩爾ASML推出最新高數值孔徑極紫外光EUV曝光機,馬上被英特爾採用,但台積電仍在觀望。外媒認為此事將是英特爾重拾霸主地位的狹窄破口,如同當年英特爾並未馬上搶進第一代EUV機台,而台積電大舉投資EUV設備。

美國科技媒體wccftech報導,英特爾打算在18A(1.8奈米)製程中試驗ASML的高數值孔徑極紫外光EUV技術,甚至考慮直接應用在14A(1.4奈米)的製造流程中。

相較之下,台積電並未跟進,原因可能是考量每台高數值孔徑EUV微影機的高昂成本,每台售價高達3.85億美元(約新台幣125.58億)相當可觀。

外媒示警,台積電可能會重蹈英特爾的覆轍,先前英特爾就因為保守的財務政策,推遲大舉投資EUV機台的時間點,台積電則在那區間大舉投資,一下子就拉開技術差距,收穫甜美果實。

即使如此,外媒也提到,英特爾執行長季辛格(Pat Gelsinger)將逆轉勝的關鍵寄託在最新的EUV機台,其實部分成本是由美國人共同承擔,英特爾拿到鉅額晶片法案補助,讓英特爾將成本社會化,當然後續成果也受到美國社會高度檢視。

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