前往主要內容
工商時報LOGO

為何不用ASML最先進EUV?台積電高層全說了

  • 時報資訊
圖為台積電公司。圖/美聯社
圖為台積電公司。圖/美聯社

已將目前網頁的網址複製到您的剪貼簿!

【時報編譯柯婉琇綜合外電報導】台積電高層周二重申台積電「A16」先進製程節點不一定需要使用艾司摩爾(ASML)下一代先進晶片製造設備「高數值孔徑極紫外光曝光機」(High-NA EUV)。

台積電4月底在加州聖塔克拉拉(Santa Clara)的一場活動上宣布其「A16」新製程將於2026年下半年投產。

High-NA極紫外光曝光機有助使晶片設計縮小多達三分之二,但價格昂貴許多,晶片製造商必須在其優點和成本增加之間權衡得失,同時也必須考量艾司摩爾較成熟的技術是否已經夠用且更為可靠。

台積電業務發展資深副總裁張曉強(Kevin Zhang)周二在阿姆斯特丹的會議上表示,台積電A16製程的工廠可能設計為可引進High-NA極紫外光曝光機,但這還不確定,「我喜歡這項技術,但我不喜歡這個價格」,「艾司摩爾的新技術何時投入使用,我認為這將取決於最佳經濟效益為在何處,以及我們能達成的技術平衡」。

據外媒報導,每套High-NA極紫外光曝光機要價超過3.5億歐元(約3.78億美元),遠高於艾司摩爾常規型EUV機器的2億歐元。

台積電是艾司摩爾常規型EUV設備的最大用戶。

張曉強4月底在加州就曾透露台積電不認為需要使用艾司摩爾新的High-NA極紫外光曝光機來打造A16晶片。

英特爾日前宣布將成為第一家使用此款尖端設備的公司,用來來打造自家的14A晶片。

您可能感興趣的話題

留言討論

返回頁首
LOADING

本網頁已閒置超過3分鐘。請點撃框外背景,或右側關閉按鈕(X),即可回到網頁。