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ASML最先進EUV要價恐破230億 台積、三星望之卻步

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ASML針對1奈米以下製程,計畫在2030年推出Hyper-NA極紫外光機(EUV)。圖/本報資料照片
ASML針對1奈米以下製程,計畫在2030年推出Hyper-NA極紫外光機(EUV)。圖/本報資料照片

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【中時新聞網 邱怡萱】荷商艾司摩爾(ASML)是半導體設備巨頭,該公司針對1奈米以下製程,計畫在2030年推出Hyper-NA極紫外光機(EUV),韓媒撰文指出,ASML設備成本高昂,可能讓台積電、三星與英特爾卻步。

根據朝鮮日報報導,ASML昂貴的設備價格,對客戶來說是龐大負擔,ASML一般常規EUV機器每台約1.81億美元,新一代的high-NA EUV售價倍增至3.62億美元,預期Hyper-NA EUV售價可能超過7.24億美元(折合約237億台幣)。

半導體產業相關人士表示,台積電過去比三星更晚引進EUV設備,台積電透過利用現有設備升級多圖案化,減輕引進新設備帶來的投資負擔。事實上,台積電已多次表示下一代EUV設備太貴,該公司業務開發資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示,A16先進製程節點並不一定需要EUV。

率先採用high-NA EUV的晶圓廠英特爾,因購買新一代設備造成龐大成本負擔,去年公司代工業務虧損70億美元,今年第1季也面臨創紀錄的營運虧損。

ASML則說,Hyper-NA是未來埃米級(angstrom)製程的必要設備,許多公司將採用Hyper-NA EUV,以降低多重圖形化製程的風險。

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