艾司摩爾（ASML）EUV的替代選擇出現了！根據外媒報導，日本科學家已開發出簡化的EUV設備，成本也親民許多，若投入量產，恐怕影響整個半導體產業。
台積電與ASML是全球半導體供應鏈最重要的兩家公司，台積電在晶片製造占據C位，ASML則靠獨家技術打造出半導體先進製程關鍵機台，該公司生產的極紫外光（EUV）設備一部要價3.8億美元，由於訂價過於高貴，台積電主管先前甚至透露A16先進製程節點不一定會採用。
不過，根據《Tom's Hardware》報導，沖繩科學技術研究院（OIST）Tsumoru Shintake教授已開發出簡化的EUV設備，成本相較ASML開發的EUV親民許多，若該設備投入量產，恐怕重塑半導體產業發展。
這款新系統的光學投影中僅使用兩個鏡面，與傳統六鏡面配置大不相同。這種光學系統的挑戰在於，必須將這些鏡面言直線對齊排列，以確保系統維持良好的光學效能。
該報導指出，新光程允許超過10%初始EUV能量到達晶圓，而標準設定僅約1%，這項進步是一項重大突破。此外，簡約的設計提升了可靠性，並減少維護的複雜性。由於功耗較低，該設備不需要複雜且昂貴的冷卻系統。
新系統效能已透過光學模擬軟體進行嚴格驗證，證明其生產先進半導體的能力。此技術的潛力已促使 OIST 提出專利申請，表示已準備好進行商業部署。