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三星前高層將技術洩密給中國 下場曝光

三星電子、SK海力士前高階主管兼晶片專家崔珍奭,因涉嫌向中國洩露三星電子核心晶片技術被拘留。圖/美聯社
三星電子、SK海力士前高階主管兼晶片專家崔珍奭,因涉嫌向中國洩露三星電子核心晶片技術被拘留。圖/美聯社

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韓國朝鮮日報報導,三星電子、海力士半導體(SK海力士)前高階主管兼晶片專家崔珍奭(66歲)因涉嫌向中國洩露三星電子核心晶片技術:20奈米級DRAM製程技術資料被拘留。

首爾中央地方法院專門負責拘留令的部長法官金美京5日針對涉嫌違反「關於防止不正當競爭與保護商業秘密的法律」的崔珍奭和前三星電子首席研究員吳某舉行了拘留前的嫌疑人審問(拘留令實質審查),判定「有潛逃的可能」並簽發了拘留令。

兩名嫌疑人涉嫌將包含20奈米級晶片生產所需的溫度、壓力等600多道製程核心資訊的資料洩露給中國成都高真科技。根據首爾警察廳產業技術安保調查隊掌握的情況,兩名嫌犯涉嫌將三星電子關於20奈米級DRAM晶片的獨家技術打包洩漏。

創立成都高真的崔珍奭曾擔任三星電子常務、海力士副社長。2023年6月,他曾因涉嫌竊取三星電子晶片工廠設計圖,並意圖開設20奈米級DRAM晶片的「三星電子複製工廠」被拘留,並於11月被保釋出獄。

1月15日,警方曾申請簽發吳某的拘留令,但法院以「有必要保障其防禦權」為由駁回。

隨後警方進行了補充調查,2日透過首爾中央地方檢察廳資訊科技犯罪調查部(部長安東建)再次申請簽發吳某的拘留令,一併申請的還有崔珍奭的拘留令。據悉,考慮到犯罪的重大性和損失規模,檢方親自出席了拘留令實質審查,說明了犯罪嫌疑。

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